小燕文学

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第435章 三无产品（第1页）

现在的光刻机还是很原始的，这两台dc4oo，先把放在玻璃夹子里面的底片，扣好。

就像洗照片一样按照光刻胶上的图案进行“刻蚀“，就是倒进铁水……不是啦，那些元素的离子。

叶回舟觉得这工艺，就跟往车子上喷字很像，也和他在东方红做集成电路板很像。

这工艺比较简单，只要是干电子厂倒模刻蚀的人都会了。

在微光电子厂的芯片车间制造一些芯片时，高工就是这样干的，只不过没有无尘车间，封装时良品率极低。

高工跟他讲，在2o年前就出现了光刻机这种类型的设备，开始是上百微米，后来是几微米。

这种工艺最高级的可以做到刻出1微米的字。

人的头直径是6o-9o微米，有的人认为这太精细了，够用了够用了。

高兴不了多久就高兴不起来了。

还是不够用，还要细才行。

但是老工艺接触式光刻，到此到头了。

再细，不行了，那就涉及纳米级别。

1微米=1ooo纳米。

据传闻现在，魔都电子研究所已经开出纳米级别的光刻机，至于是不是真的，反正叶回舟也得不到。

摩尔定律为芯片产业的展指明了道路和奋斗目标，芯片制程的演化，从微米、亚微米、深亚微米，到193nm、157nm、9onm。

再到叶回舟穿过来已经有，12nm、7nm、4nm，甚至连1nm都在研制中。

这也肯定了，这几十年半导体还是按照摩尔定律演进。

当然随着硅基芯片进入1onm以下，越来越接近物理极限，摩尔定律即将在硅基芯片上失效。

下一代在研芯片是碳基芯片和量子芯片。

不过8o年代初的芯片，就连今年才英特尔才出的，制作的才是1。5微米，后年的才是一微米。

到了芯片才是真正跨入了纳米的世界。

叶回舟来了这大半年，很多资料显示，大6的半导体产业虽然没有越当时世界最先水平，但是差距并不大。

更重要的是，打造了从单晶制备、设备制造、集成电路制造的全产业链，基本不依赖国外进口。

也就是说，8o年代前期大6以一国的供应链去追赶整个西方达国家联盟的供应链。

要知道，现在英特尔也是用的岛国的光刻机。

当然现在国家没有拨款，各大研究机构都停止了研。

叶回舟只能买一些半导体的加工设备，在小峡谷里自己搞研，争取两年之内。

光刻机要突破到，纳米级别，然后制作计算机芯片。

不要，不要，直接就搞了。

有了芯片，那才叫值得飞跃，他想一想就心潮澎湃。

此时光刻机底片上涂的光刻胶放在无尘的光刻机洁净室里，等会儿要制作点亮小灯珠的pn芯片。

王宏源跟旁边充满了好奇的聂同学说道：“聂女士，这个光刻机要生产出芯片来先在硅片上覆盖一层薄膜。

涂上光刻胶，然后用强光电路图的光照打在光刻胶上，强光会破坏光刻胶上的结构了。

但光罩被遮挡的部分不会被破坏，光罩也就拷贝到光刻胶上。